Ultra-trace analysis of contaminants on silicon wafer surfaces : the development of a Synchrotron Radiation - Total reflection X-Ray Fluorescence (SR-TXRF) facility at the ESRF

par Giorgio Apostolo

Thèse de doctorat en Physique

Sous la direction de Joël Chevrier et de Fabio Comin.

Soutenue en 2001

à Grenoble 1 , en partenariat avec European synchrotron radiation facility (Grenoble) (laboratoire) .

Le président du jury était Jean-René Régnard.

Le jury était composé de François Tardif.

Les rapporteurs étaient Christina Streli, Pierre Chevallier.

mots clés

• Analyse en trace des éléments
• Contamination à la surface
• Total reflection X-ray fluorescence
• Rayonnement de synchrotron
• Optique de rayons X
• Industries des semiconducteurs
• Trace element analysis
• Surface contamination
• Total reflection X-ray fluorescence
• Synchrotron radiation
• X-ray optics
• Semiconductor industries
• Rayonnement synchrotron
• Fluorescence
• Rayons X
• Semiconducteurs

Titre traduit

= Analyse des traces des contaminants à la surface des plaquettes de silicium : développement d'un instrument pour SR-TXRF à l'ESRF

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