Analyse expérimentale et modélisation du dépôt de films de Ti-Si-N par pulvérisation réactive r. F. Magnétron

par Laurent Le Brizoual

Thèse de doctorat en Science des matériaux, plasma, couches minces

Sous la direction de Agnès Granier.

Soutenue en 2000

à Nantes .


  • Résumé

    Cette thèse a pour thème l'étude expérimentale et la modélisation du dépôt de films minces de Ti-Si-N par pulvérisation réactive r. F. Magnétron. Ces couches minces sont élaborées par pulvérisation d'une cible de Ti5Si3 dans un mélange réactif argon/azote. L'objectif de cette étude est de caractériser à la fois le plasma, la pulvérisation et les films minces afin de déterminer l'influence de la puissance rf et du pourcentage d'azote dans le mélange sur la structure et les propriétés des films de Ti-Si-N. Enfin, on étudie les propriétés de barrière à la diffusion du cuivre de ces films minces de Ti-Si-N pour des applications microélectronique.


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Informations

  • Détails : 183 p.
  • Notes : Publication autorisée par le jury
  • Annexes : Bibliogr. p. 169-179

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  • Bibliothèque : Université de Nantes. Service commun de la documentation. BU Sciences.
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  • Bibliothèque : Université de Nantes. Service commun de la documentation. BU Sciences.
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