Comportement du cuivre dans les melanges hf-mf (m = k ou nh : :(4)) fondus utilises pour l'obtention electrolytique du fluor
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Auteur / Autrice : | Sylvie Lamirault |
Direction : | Gérard Picard |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Sciences appliquées |
Date : | Soutenance en 1987 |
Etablissement(s) : | Paris 6 |
Mots clés
FR
Mots clés libres
Sciences appliquees
Metaux, metallurgie
Corrosion electrochimique
Cuivre
Hydrogene fluorure
Potassium fluorure
Etude experimentale
Chronopotentiometrie
Chronoamperometrie
Application
Extraction electrolytique
Fluor
Electrolyse
Cinetique
Passivation
Couche superficielle
Epaisseur couche
Densite courant
Mecanisme corrosion
Ammonium fluorure
Voltammetrie cyclique
Impedance
Metal pur cu
Electrochemical corrosion
Copper
Hydrofluoric acid
Potassium fluoride
Experimental study
Chronopotentiometry
Chronoamperometry
Utilisation
Electrolytic separation
Fluorine
Electrolysis
Kinetics
Passivation
Surface film
Layer thickness
Current density
Corrosion mechanism
Ammonium fluorides
Cyclic voltammetry
Application
Impedance
Surface layer
Résumé
FR
Etude thermodynamique et cinetique de la corrosion electrochimique dans les melanges hf-mf(m=k ou nh::(4)) du cuivre metal entrant, soit pur, soit sous forme d'alliage (monel) dans la construction des cellules industrielles d'electrolyse. Mise en evidence de la formation d'une couche de fluorure de cuivre passivante. Evaluation de l'epaisseur limite de la couche. Etablissement de l'influence de la densite de courant sur le caractere passivant de la couche formee. Proposition d'un mecanisme de corrosion du cuivre