Hétéroépitaxie par jets moléculaires de semiconducteurs II-VI
Auteur / Autrice : | Christophe Fontaine |
Direction : | Jean-Claude Pfister |
Type : | Thèse de doctorat |
Discipline(s) : | Sciences des matériaux |
Date : | Soutenance en 1986 |
Etablissement(s) : | Université Joseph Fourier (Grenoble ; 1971-2015) |
Mots clés
Mots clés libres
Résumé
Etude de l'heteroepitaxie de cdte, cd::(1-x)zn::(x)te et cd::(x)hg::(1-x)te sur cdznte, insb et gaas (001) et (111) et des differents parametres qui gouvernent la qualite cristalline. Il s'avere que la croissance (001) est meilleure que la croissance (111). L'interet d'une interface graduelle est demontre a fort desaccord de maille. A faible desaccord de mailles les contraintes dans les couches epitaxiques ont ete mesurees. Dans ces conditions experimentales, la relaxatioon des couches est gouvernee par un mecanisme de generation de dislocations et non par l'activation thermique des dislocations presentes. Les modeles existants ne permettent pas de decrire la relaxation dans les couches cdte. Presentation d'un modele qui rend compte des observations