Annealing  Carbure de silicium  Circuits intégrés  Cobalt -- Alliages  Couche mince  Couches minces  Cycles de procédés  Densités des niveaux d'énergie  Diffusion  Dislocations  Dislocations dans les cristaux  Dislocations dans les métaux  Dislocations dans les semiconducteurs  Dureté  Défauts  Défects  Electronique  Fabrication microélectronique  Formation défaut  Gallium -- Alliages  Hélium  Impuretés interstitielles  Interfaces cristallines  Jonction ultra courte  Lacbed  Lumière -- Diffusion  Matériau SOI  Met  Microelectronic fabrication  Microscopie électronique en transmission  Microélectronique  Multi-implantation dans du Si  Métaux de transition  Na  Nanoindentation  Nc  Nickel -- Couches minces  Or -- Alliages  Or -- diffusion -- thèses  Oxide  Oxyde  Oxyde de silicium  Platine -- Alliages  Platine  Rayleigh, Diffusion de  Rayons X -- Diffraction  Recuit  Recuit des métaux  Redresseurs à semiconducteurs  Relaxation des contraintes  SOI substrates  Sciences appliquees  Semiconducteurs -- Dopage  Semiconducteurs -- Défauts  Semiconducteurs -- Jonctions  Silice  Silicium -- Couches minces  Silicium -- Substrats  Silicium  Silicium cristallisé  Silicon on insulator technology  Simox  Smart-Cut®  Stoechiométrie  Surfaces -- Défauts  Technologie silicium sur isolant  Technologie silicium-sur-isolant  Thin film  Tomographie  Traitement thermique  Transistors MOSFET  Unibond®  Épitaxie  

Bernard Pichaud a dirigé les 12 thèses suivantes :

Sciences des matériaux. Physique. Chimie et nanosciences
Soutenue en 2010
Thèse soutenue


Bernard Pichaud a été rapporteur des 2 thèses suivantes :

Milieux denses, matériaux et composants
Soutenue le 10-07-2012
Thèse soutenue